产品分类 / Product Cate
锂电池 钛棒 钛板 钛丝 钛管 钛带 钛制品 钛加工件 镍材料类
联系方式 / Contact Us
宝鸡市秦灏有色金属有限公司
邮箱:bjqinhaojs@163.com
电话:86-0917-3384086
传真:86-0917-3381708
网址:http://www.bjqhjs.com
地址:陕西省宝鸡市渭滨区宝钛路
  南段10号
首页 - 产品中心
 
产品名称: 钛钯
添加时间: 2018-11-07 12:21:51
浏览次数:
 

性能要求

靶材的主要性能要求:

纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6", 8"发展到12", 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

返回首页      Copyright © 2008 - 2012 宝鸡市秦灏有色金属有限公司 bjqhjs.com. All rights Reserved. 技术支持:艺帆工作室 陕ICP备12000750号